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儀器設備

SIGMA500|熱場發射掃描電子顯微鏡

廣泛應用于材料、冶金、機械、化工、半導體與器件、地質礦產、生物、醫學、刑偵、災害分析、珠寶鑒定、工業產品質量檢測及生產工藝控制等。可進行高分辨微觀組織分析、失效分析、化學成分分析、相鑒定和晶體取向分析等。
  • 參數生產廠家:德國Zeiss
  • 參數分辨率: 0.8nm @15 kV
  • 參數放大倍數:10-1,000,000×
  • 參數加速電壓:0.02-30 kV
  • 參數探針電流: 4pA-20nA
  • 參數樣品室: 358 mm(直徑),270 mm(高)
  • 參數樣品臺:五軸優中心,X=Y=130mm,Z=50mm,T=-4-70°,R=360°
  • 參數Oxford Aztec X-MAX50能譜儀:分析元素4Be-98Cf
  • 參數Oxford Nordlys Max3 EBSD:采集并解析速度1500點/秒
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